Intel ha appena annunciato i risultati del terzo trimestre 2019, registrando 6 miliardi di dollari di profitti (-6%) su un fatturato a crescita zero di 19,2 miliardi. Risultati di cui il CEO Bob Swan si è detto soddisfatto in un incontro con gli analisti (earnings call), incontro che però è stato dedicato in buona parte all’obbiettivo mancato da parte di Intel di recuperare il gap tra la sua capacità produttiva e la domanda di chip da parte dei produttori di pc.

“Il nostro obiettivo è non essere un vincolo alla crescita dei nostri clienti, che da noi si aspettano di più”, ha detto Swan. Il problema continuerà anche oltre il 2019, anche se in questo esercizio Intel ha investito e investirà tanto da aumentare la capacità produttiva del 25%.

Il Client Computing Group, cioè il business legato ai pc, è stato l’unico a veder diminuire il fatturato rispetto al terzo trimestre 2018 (-5% a 9,7 miliardi). Tutte le altre divisioni, dall’IoT Group (+9% a un miliardo) al Data Center Group (6,4 miliardi, +4%) al business NSG (Non-Volatile Memory Solutions Group) sono cresciute.

I problemi di consegna, ha specificato Swan, riguardano soprattutto i processori “value” per la fascia bassa del mercato pc, la stessa in cui Intel ha appena presentato Tremont, un nuovo chip Atom.

“Il problema di base è che tre anni fa abbiamo dimensionato tutto sulla previsione che il business microprocessori sarebbe cresciuto del 20% sui tre anni, e invece è cresciuto molto di più”. Per ovviare ai ritardi di consegna, Intel investirà anche il prossimo anno in modo da aumentare la capacità produttiva di un ulteriore 25%. Potrebbe essere addirittura uno sforzo sovradimensionato, ha specificato il CEO, ma darà a Intel un “polmone” di scorte sufficiente a rassicurare i clienti, oltre a permetterle di tornare a tempi di consegna competitivi nel segmento “value” della fascia basssa del mercato pc.

Gli investimenti riguarderanno sia la produzione 14nm, sia quella 10nm, sia la preparazione degli impianti a 7nm, che produrranno GPU discrete per i data center basandosi sulla litografia estrema (EUV).